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型號(hào)

Q150V S Plus

放置地點(diǎn)

繼續(xù)教育學(xué)院104

負(fù)責(zé)人

徐曉龍/王向科

聯(lián)系方式

15656017000/13424924251

使用方式

培訓(xùn)預(yù)約使用

主要技術(shù)指標(biāo)

1. 真空系統(tǒng)：5m3/hr旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵＋70L/s風(fēng)冷渦輪分子泵（儀器內(nèi)部）；系統(tǒng)極限真空度為1 x 10-6 mbar；濺射工作真空范圍：鍍金時(shí)真空在5x 10-3和1 x 10-1mbar之間；

2. 濺射電流：0-150mA連續(xù)可調(diào)；采用低電壓恒流冷濺射方式；

3. 濺射時(shí)間：可預(yù)設(shè)濺射時(shí)間；一次真空條件下1-3600秒連續(xù)可調(diào)；

4. 濺射靶材：標(biāo)配直徑57mm圓片鉻靶1塊。

研究領(lǐng)域

制備各類(lèi)金屬、非金屬的功能性薄膜。

測(cè)試內(nèi)容

無(wú)

管理辦法

□有 □無(wú)

委托測(cè)試單

□有 □無(wú)

儀器狀態(tài)

正常